삼성전자, 지난해 시설투자 48조2000억···전년比 9조7000억 증가

반도체 43조6000억원, 디스플레이 2조6000억원

사진=뉴스웨이DB

삼성전자는 지난해 48조2000억원 규모의 시설투자에 나섰다고 27일 공시했다.

이는 2020년 시설투자 비용인 38조5000억원 대비 9조7000억원(25.2%) 증가한 규모다.

사업별로는 반도체 43조6000억원, 디스플레이 2조6000억원으로 집계됐다.

2020년 대비 디스플레이 투자규모는 3조9000억원에서 33.3% 감소했으나 반도체 부문은 32조9000억원에서 32.5% 증가했다.

메모리는 EUV 기반 15나노 D램, V6 낸드 등 첨단공정 수요 대응을 위한 평택·시안 증설과 공정 전환, 평택 P3 라인 인프라 투자 등을 중심으로 시설투자가 진행됐다.

삼성전자 측은 “EUV를 포함한 차세대 기술 적용을 선제적으로 확대함에 따라 메모리 투자가 전년 대비 증가했다”고 설명했다.

파운드리는 평택 EUV 5나노 첨단공정 증설 등을 중심으로 투자가 진행됐으며 디스플레이는 중소형 모듈과 QD 디스플레이에 중점을 두고 투자했다.